单项选择题

蒸发镀膜的基本工艺流程是（）。

A.镀前准备-抽真空-离子轰击-烘烤-预熔-蒸发-取件-镀层表面处理-成品
B.镀前准备-抽真空-离子溅射-蒸发-取件-镀层表面处理-成品
C.镀前准备-抽真空-离子轰击-蒸发-取件-成品
D.镀前准备-抽真空-离子溅射-烘烤-预熔-蒸发-取件-镀层表面处理-成品

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单项选择题

A.影像系统
B.排气系统
C.机械系统
D.扩散泵

单项选择题

A.可以蒸发金属、半导体、陶瓷等各种无机材料
B.不会引起蒸发源辐射作用而造成基片温度的提高
C.电弧放电会飞溅出微米级大小的电极材料的微粒，从而保护膜层
D.蒸发源温度均匀稳定，不易产生蒸发料的飞溅现象