如图所示，用单色平行光垂直照射3中透明材料构成的牛顿环装置，观察反射光形成的干涉条纹，则在接触点处形成的圆斑为（       ）。
A、全明
B、右半部明，左半部暗
C、全暗
D、右半部暗，左半部明

A．畴壁的迁移是通过磁矩方向改变实现的。
B．磁畴旋转的结果使 稳定在原磁化方向和磁场方向间总能量最小的角度上。
C．缺陷和杂质等是技术磁化过程的阻力之一。
D．畴壁从杂质脱离,引起退磁能降低。