单项选择题
下面有关技术磁化过程机制描述错误的是( )。
A．畴壁的迁移是通过磁矩方向改变实现的。
B．磁畴旋转的结果使
稳定在原磁化方向和磁场方向间总能量最小的角度上。
C．缺陷和杂质等是技术磁化过程的阻力之一。
D．畴壁从杂质脱离,引起退磁能降低。
B．磁畴旋转的结果使
C．缺陷和杂质等是技术磁化过程的阻力之一。
D．畴壁从杂质脱离,引起退磁能降低。