简答题 简述采用5次光刻的多晶硅薄膜晶体管的工艺流程的难点与特点。

【参考答案】

5次光刻分别为源漏电极、有源岛、栅极、过孔、ITO像素电极。
第一次光刻在玻璃基板上沉积一层基层薄膜，溅射源漏......

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