简答题 试说明半导体制造中扩散工艺的主要目的。列出并解释实际扩散工艺的主要步骤，并说明个步骤的主要作用和工艺温度。

【参考答案】

在晶圆表面产生特定数量的掺杂原子；
在晶圆表面下的特定位置处形成pn结；
在晶圆表面层形成特定的掺杂......

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