问答题
简答题 解释有限表面源扩散,列出有限表面源扩散的三种主要工艺参数,并说明其含义和主要影响因素。
【参考答案】
扩散前先在硅片表面淀积一定数量的杂质,然后在整个扩散过程中将这层杂质作为扩散的杂质源,不再有新源补充,这种扩散方式称为有......
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试题
问答题
列出恒定表面源扩散的三种主要工艺参数,并说明其含义和主要影响因素。
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问答题
什么是恒定表面源扩散?其扩散形成的结深主要受哪些因素的影响?其中哪一个影响最主要?为什么?
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