问答题
简答题 光刻胶正胶和负胶的区别是什么?
【参考答案】
正性光刻胶受光或紫外线照射后感光的部分发生光分解反应,可溶于显影液,未感光的部分显影后仍然留在晶圆的表面,它一般适合做长......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
点击查看答案
<上一题
目录
下一题>
热门
试题
问答题
简述光刻工艺步骤。
点击查看答案
问答题
光刻的作用是什么?列举两种常用曝光方式。
点击查看答案
相关试题
把半导体级硅的多晶硅块,转换成一块大的单...
在晶体材料中,对于长程有序的原子模式最基...
从天然硅中获得达到生产半导体器件所需纯度...
BiCMOS技术就是将()和()的优良性能集中...
MOS场效应管(MOSFET)在20世纪70年代...