单项选择题
溅射中用于轰击靶材的气体是()。
A.Ar
B.He
C.N
2
D.O
2
点击查看答案
<上一题
目录
下一题>
热门
试题
单项选择题
PVD的定义为()。
A.物理气相沉积
B.化学气相沉积
C.等离子气相沉积
D.平面真空镀膜
点击查看答案
问答题
简述薄膜应力对X射线衍射峰的影响规律及利用X射线衍射技术测童薄膜应力的两种方法。
点击查看答案
相关试题
PLD沉积合金薄膜时比蒸发的成分可控性要好...
MOCVD通常用于制备外延薄膜。
温度越高,吸附原子解吸附越快,所以扩散距...
溅射镀膜中,气压越高,入射离子越多,因此...
磁控溅射可以是直流溅射,也可以是射频溅射。