简答题 简述阵列工艺的基本工艺流程。

试根据5次光刻的工艺流程绘制等效电路。 点击查看答案

试分析在背沟道阻挡结构的第二次光刻中，采用了背曝光为什么还要采用一次曝光？直接使用一次曝光不行吗？ 点击查看答案