单项选择题
热氧化法的作用是什么?()
A.获得优良的SiO
2
绝缘膜
B.退火,降低位错密度
C.提高集成电路的稳定性
D.去除杂质
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单项选择题
热氧化法用的氧化剂除了氧气还能是什么?()
A.氮气
B.水蒸气
C.氩气
D.氦气
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单项选择题
源栅漏极引出用钨的原因是()。
A.钨价格低
B.钨导电率高
C.钨熔点高
D.钨不易氧化
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