判断题

P1848设备TEOS水浴加热后通过He携带进入腔体与O2气发生反应生成SiO2。（）

【参考答案】

正确

(↓↓↓ 点击‘点击查看答案’看答案解析 ↓↓↓)
<上一题 目录 下一题>
热门 试题

判断题
溅射淀积工艺的金属台阶覆盖要比蒸发淀积的台阶覆盖更好。（）
单项选择题
液态TEOS源是采用载流气体鼓泡方式携带，例如N2、O2、He，而P1102.TEOS工艺是采用（）进入反应炉。

A.N2
B.O2
C.He
D.水浴饱和蒸汽
相关试题