判断题

溅射淀积工艺的金属台阶覆盖要比蒸发淀积的台阶覆盖更好。（）

【参考答案】

正确

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单项选择题
液态TEOS源是采用载流气体鼓泡方式携带，例如N2、O2、He，而P1102.TEOS工艺是采用（）进入反应炉。

A.N2
B.O2
C.He
D.水浴饱和蒸汽
单项选择题
下列哪种工艺会使用到RF？（）

A.电镀
B.SOG
C.APCVD
D.PECVD
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