单项选择题

下颌缺失,余牙正常,设计铸造支架式义齿。

制取印模应采用()

A.压力印模
B.解剖式印模
C.二次印模
D.终印模
E.都不是

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单项选择题
RPI卡环的Ⅰ杆应止于()

A.舌面稍偏近中
B.舌面稍偏远中
C.远中面
D.颊面稍偏远中
E.颊面稍偏近中

单项选择题
如果为RPI卡环组设计,基牙预备时应备出()

A.近、远中支托凹
B.近中支托凹、远中导平面
C.近中支托凹、舌侧导平面
D.近中支托凹、颊侧导平面
E.远中支托凹、远中导平面

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