单项选择题

关于氧化沟的工艺,以下描述中正确的是()。

A.池前必须设置初沉池
B.池后必须设置二次沉淀池
C.由于BOD负荷低,对水温、水质、水量的变动适应性强,抗冲击负荷能力强
D.污泥产率高

<上一题 目录 下一题>
热门 试题

单项选择题
图2—9是哪种活性污泥处理系统的工艺流程?()

A.以氧化沟为生物处理单元的污水处理流程
B.吸附一再生活性污泥法工艺流程
C.阶段曝气活性污泥法工艺流程
D.完全混合活性污泥处理法工艺流程

单项选择题
连续进水、间歇排水的DAT—IAT工艺系统()。

A.由以间歇曝气池为主体的预反应区和以需氧池为主体的主反应区组成
B.在间歇曝气池污水连续流入,同时有从主反应区回流的活性污泥流入
C.由以需氧池为主体的预反应区和以间歇曝气池为主体的主反应区组成
D.在预反应区完成脱氮、除磷

相关试题
  • 以下描述正确的是()。
  • 气、液、固三相接触时,湿润接触角θ=90...
  • 关于气浮法处理废水的描述正确的是()。
  • 在活性炭处理废水的工艺中,会出现多种误区...
  • 为了沉淀去除某工业废水中的六价铬,宜投加...