单项选择题

用抗体修饰的靶向制剂称为

A．被动靶向制剂
B．主动靶向制剂
C．物理靶向制剂
D．化学靶向制剂
E．以上均不是
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单项选择题
测定缓、控释制剂释放度时，第三个取样点控制释放量在多少以上( )。
A．85%
B．90%
C．80%
D．75%
E．95%
单项选择题
粉末直接压片时所需的优良助流剂为( )。
A．微粉硅胶
B．喷雾干燥乳糖
C．甘露醇
D．可压性淀粉
E．微晶纤维素
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