多项选择题

采用溅射法沉积薄膜的过程有()。

A.靶的溅射
B.逸出粒子的形态
C.溅射粒子向基片的迁移
D.在基板上成膜的过程

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热门 试题

多项选择题
水热反应的特点有()。

A.反应条件一般在高温、高压条件下进行
B.在水热条件下能改变反应物反应性能,提高反应活性
C.易于生成特殊中间态以及特殊物相
D.水热条件下的环境气氛不易于调节

多项选择题
射频溅射的靶材包括()等。

A.导体
B.半导体
C.陶瓷

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