单项选择题
A.0 B.-g C.mg D.–mg
A.在a处设水平抗推支座,流动方向改变,支座位置不变 B.在b处设水平抗推支座,流动方向改变,支座位置不变 C.在c处设水平抗推支座,流动方向改变,支座位置需要改变 D.在d处设水平抗推支座,流动方向改变,支座位置不变
A.流体在与固体接触的边界层内呈紊流状态,在离开边界的主流内呈层流状态 B.在扰动源附近呈紊流状态,其他区域呈层流状态 C.在所有区域都呈紊流状态 D.在扰动源一定范围外的边界层区域呈层流状态,其他区域呈紊流状态