单项选择题

上海光机所用308nm、248nm和193nm三个准分子激光波长及255nm铜蒸气倍频激光进行了激光光刻实验。其中针对（）激光研制了两个光刻镜头。

A.308nm和248nm
B.308nm和193nm
C.248nm和193nm

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单项选择题

为了适应高集成度、高速以及高成率的集成电路生产需求，国内研究单位和生产厂家为满足我国产业界从8μm线过渡到（）线的需求，为此上海光机所在国内最先开始了研制“1：1扫描投影光刻机”。

A.2μm
B.3μm
C.4μm
D.5μm

单项选择题

1980年至1998年是上海光机所（）的辉煌期，在此期间，承担国家科技攻关项目共11项，获国家发明奖和国家科技进步奖6项。

A.激光加工工艺应用研究
B.导光聚焦系统研制
C.激光加工机床研制及其应用
D.激光加工用CO2及YAG激光器研制

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