多项选择题

‎对非光学曝光表述正确的是（）。

A.X-射线是非光学曝光
B.电子束是非光学曝光
C.非光学曝光都不需要光刻版
D.EUV是非光学曝光

<上一题目录下一题>

热门试题

多项选择题

对移相掩膜（PSM）表述正确的是（）。

A.使光通过后产生180度相位差
B.提高分辨率
C.消除了图形边缘的衍射

多项选择题

对正性光刻胶特性表述正确的是（）。

A.分辨率高
B.显影时曝光部分不溶解，未曝光部分溶解
C.分辨率低
D.显影时曝光部分溶解，未曝光部分不溶解

相关试题