判断题
通过调节P5000基座水平可改善淀积膜厚的均匀性。()
【参考答案】
正确
(↓↓↓ 点击‘点击查看答案’看答案解析 ↓↓↓)
点击查看答案&解析
<上一题
目录
下一题>
热门
试题
判断题
溅射与蒸发过程中真空度大小直接影响制品反射率情况。()
点击查看答案&解析
判断题
蒸发淀积多元化合金薄膜时,可较好控制其化学成分。()
点击查看答案&解析
相关试题
PLD沉积合金薄膜时比蒸发的成分可控性要好...
MOCVD通常用于制备外延薄膜。
温度越高,吸附原子解吸附越快,所以扩散距...
溅射镀膜中,气压越高,入射离子越多,因此...
磁控溅射可以是直流溅射,也可以是射频溅射。