在模型诊断中，下列哪些关于残差的图可以用于检验异方差性？（）

在两水平析因设计中，在加入中心点之后检验出纯二次项是显著的，但若此时所有的数据量不足以估计出二阶响应曲面模型的所有参数，则可以在2k设计中加入若干次轴试验（axial run），由此得到的设计称为（）。

A.增加试验点的析因设计
B.中心复合设计
C.完全随机的正交设计
D.区组设计

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重复测量（duplicate measurement）的同一水平下的n次试验结果之间的方差比重复试验（replicate）同一水平下的n次试验结果的方差（）。

A.大
B.不能确定
C.小
D.一样

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