单项选择题

‌氧化膜生长过程第一阶段中，无孔层的厚度与下列哪项成正比？（）

A.形成电流
B.形成电压
C.电解液浓度
D.氧化膜在电解液中的溶解速度

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‍下列哪项不属于化学刻蚀图纹化的基本工艺？（）

A.刻蚀
B.水洗
C.除脂
D.除油
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氧化亚铜的制备实验中，反应温度必须保持在多少以上？（）

A.70℃
B.60℃
C.80℃
D.90℃
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