简答题 列出简化的双阱CMOS工艺流程中的主要步骤，并说明该流程的两个主要特点。

【参考答案】

步骤：
阱区离子注入；
定义有源区刻蚀及在绝缘沟槽中填充氧化物；
淀积及形成多晶硅层图形；......

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