单项选择题
A.它出现于磁导率不同的分界线上 B.由被磁化的试件与未磁化的试件接触而引起 C.由于磁化磁场过强而引起 D.由于磁化电流太大而引起 E.由于被磁化的试件相互接触而造成 F.E和B
A.凡有磁痕的部位都是缺陷部位 B.虽然没有缺陷，有时也会出现类似缺陷的磁痕 C.当发现磁痕时，必须观察其表面状态及表层下结构，以免误码判 D.为确定磁痕是否缺陷引起，有时需检验其重复性 E.除A以外都对
A.用较高的安培值重新磁化 B.用较低的安培值重新磁化 C.退磁 D.A和C