常用的溅射镀膜方法有（）溅射、（）溅射和（）溅射，其中（）溅射只能沉积金属膜，（）溅射能够沉积介质膜。

为了获得所设计成分的合金或化合物薄膜，可以采用（）和（）蒸发法。 点击查看答案

蒸发镀膜高真空度的目的主要为：金属或非金属材料的（）温度下降，可以减少蒸汽原子和（）原子的（） 点击查看答案