判断题

集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源主要是去离子水，即超纯水。（）

【参考答案】

正确
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丙酮和硫酸都属于半导体制造中常用的溶剂。（）
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