问答题

简答题 试分析背沟道刻蚀型的5次光刻中过孔的工艺难点。

【参考答案】

1)刻蚀时间不能太长。在TFT漏极上过孔,需要刻蚀钝化层P-SiNx约为2500Å,能......

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