单项选择题

电沉积法制备金属层时必须的设备是（）。

A、直流电源
B、搅拌装置
C、过滤装置

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单项选择题
化学镀镍中最常用的的还原剂是（）。

A.硼氢化钠
B.次亚磷酸钠
C.硼烷
单项选择题
与电镀镍相比，化学镀镍层有何优异性（）。

A、镀镍层脆性大
B、沉积速度较慢
C、优异的抗蚀性和耐磨性
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