判断题

集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源主要是去离子水，即超纯水。（）

【参考答案】

正确
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不同行业都有自己的洁净技术的标准。（）
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