简答题 磁控溅射具有的两大特点和需要优化的主要实验参数有哪些？

【参考答案】

磁控溅射具有沉积温度低、沉积速率高两大特点。在溅射镀膜过程中，可以调节并需要优化的实验参数有电源功率、工作气体流里和压强......

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